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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 濺射沉積半導體 IGZO 薄膜 
(發布日期:2021-3-1 14:03:06) 來源:
 
   

河北某大學實驗室在研究 IGZO 薄膜的特性試驗中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源濺射沉積半導體 IGZO 薄膜.

 

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術參數:

型號

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

試驗采用射頻(RF)磁控濺射沉積方法在室溫不同壓強下在石英玻璃襯底上制備出高透光率與較好電學性質的透明氧化物半導體 InGaZnO4IGZO)薄膜并對薄膜進行X線衍射(XRD)、生長速率、電阻率和透光率的測試與表征.

 

結果表明:

實驗所獲樣品 IGZO 薄膜為非晶態薄膜最小電阻率為1.3×10^-3Ω·cm, 根據光學性能測試結果, IGZO 薄膜在 200350nm 的紫外光區有較強吸收 400900nm 的可見光波段的透過率為75%~97.

 

相比傳統的有以下優點:

更小的晶體尺寸設備更輕;全透明對可見光不敏感能夠大大增加元件的開口率提高亮度降低功耗的電子遷移率大約為比傳統材料進步非常明顯面板比傳統面板有了全面的提升.

 

KRI 離子源的獨特功能實現了更好的性能增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術的情況下是無法實現的.

 

KRI 離子源是領域公認的領導者已獲得許多專利. KRI 離子源已應用于許多已成為行業標準的過程中.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質譜儀真空計美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測試機美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.

 

 
伯東企業(上海)有限公司
所在區域: 上海.上海 郵編: 200131
公司地址: 上海市外高橋保稅區希雅路33號17號樓B座3層,200131 聯系人:張婷婷 女士 (銷售工程師)
辦公電話: 021-50463511轉106 傳真: 021-50461490
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